總流程(總覽)
1. 原料前處理
? 烘干:原料、罐/球 120–150°真空或烘箱≥12h。
? 環(huán)境:對濕敏(尤其硫化物/鹵化物)全流程在Ar手套箱(H?O/O? <10 ppm)完成稱量、裝罐、取樣與組裝。
2. 機械混合 / 機械化學(xué)(在 PULVERIZER 80高能球磨機中完成)
? 罐材/球材:ZrO? 常用;不銹鋼/WC 需評估金屬/WC污染。
? 裝料:45 mL 罐常見8–25 g;球料比 BPR 10–35:1(隨體系調(diào)整)。
? 球徑:以 5 mm 為主,配3/10 mm做級配。
? 時序:程序化間歇(例:10’研磨/5’停),控溫升與結(jié)塊。
? 能量:主盤≤約800rpm、罐≤約1600rpm作為上限守則,逐步摸索到目標相。
3. 成形與致密化
? 冷壓 200-400MPa 得綠胚;需要時熱壓/SPS提高相對密度(研究級≥90%,器件評估≥95%)。
4. 熱處理(配方相關(guān))
? 氧化物/鹵化物多需300–1230°不等的退火/燒結(jié);硫化物多為低溫活化或不退火。
5. 組裝與表征
? 在手套箱貼電極、裝夾具;EIS 測 σ_ion(室溫→升溫)、直流極化、LSV;XRD/拉曼確證相;SEM/壓汞看孔隙。
四條典型路線(起始參數(shù))
A. 硫化物(例:Li?PS?Cl)
? 配比:Li?S、P?S?、LiCl 計量,Li?S 微過量抑副相。
? 研磨:45 mL ZrO? 罐;BPR 25–35:1;10’/5’ 間歇累計2–8 h起步,可視XRD/拉曼延長至 20 h。可少量工藝助劑(如正己烷)減少結(jié)塊。
? 可選退火:200–500 °C 2–8 h(密閉,注意 H?S安全),冷卻后短時復(fù)磨活化界面。
? 壓片/致密:φ10–13mm,冷壓 200-400MPa;可熱壓/SPS。
? 安全:全程手套箱;通風(fēng)柜設(shè)堿液吸收與 H?S 檢測貼。
B. 氧化物(例:Al 摻雜 LLZO)
? 混料球磨:1–3 h 均化(BPR 10–25:1;5–10 mm 球)。Li?CO? 過量 5–10% 補償揮發(fā)。
? 預(yù)燒:900–1000 °C 4–12 h → 破碎 → 二次短磨去團聚。
? 成形/燒結(jié):冷壓 200–300 MPa;1100–1230 °C 2–12 h,母粉包埋 + Al?O? setter 抑 Li 揮發(fā)。
C. 鹵化物(例:Li?YCl? / Li?InCl?)
? 機械化學(xué):BPR 25–35:1,5–15 h 間歇研磨,嚴格控濕。
? 低溫退火:300–600 °C 2–6 h 晶化(密閉坩堝),必要時復(fù)磨解團聚。
? 壓片/致密:冷壓/熱壓;裝配全程手套箱。
D. 聚合物-無機復(fù)合(例:PEO+LiTFSI+LLZO 納米)
? 預(yù)干:PEO/鹽 60 °C,陶瓷填料 120 °C。
? 低速分散:以 3 mm 小球、低–中速 0.5–2 h;或先濕法分散后澆鑄成膜。
? 熱壓:40–80 °C 致密,避免晶化條紋。
質(zhì)控與放行(建議線)
? XRD:主相 >95%(峰面積)。
? EIS:硫化物室溫 10?3–10?2 S·cm?1 為常見量級;其他體系按配方。
? 密度:相對密度 ≥90%(研究級)/ ≥95%(器件)。
? 含水:庫侖法(卡爾費休)硫化物批 <50 ppm;氧化物/鹵化物 <200ppm。
安全與設(shè)備細節(jié)(要點)
? 交叉污染:每批后乙醇/IPA+超聲清洗,空轉(zhuǎn) 10 min干燥。
? 選材:ZrO? 常規(guī)優(yōu)先;如追求極限能量可用不銹鋼/WC,但需評估雜質(zhì)引入。
? 溫升:程序化間歇+總時間上限;必要時襯墊散熱。
? 設(shè)備:在 PULVERIZER 80 雙罐高能球磨機完成關(guān)鍵研磨(45ml密封氧化鋯罐,主盤≈800rpm、罐≈1600rpm間隙研磨)。
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